化工：下一代晶体管材料的潜在希望

　　核心观点：

　　二维黒磷直接带隙，光电响应覆盖波长广黑磷有四种晶体结构：正交晶系、简立方晶系、三角晶系和无定型，其与石墨不同的是同一层内的原子不在同一平面上,呈一种蜂窝状的褶皱结构。

　　二维黑磷无论单层多层都是直接带隙，能隙可随层数多少调节(0.3-2.0eV)，光电响应覆盖波长广，电子迁移率1000cm2/vs。

　　二维黒磷三种制备方法，各具优劣势二维黑磷制备主要包括：机械剥离法、液相剥离法和脉冲激光沉积法三种。三种方法各具优缺点：机械剥离法优点是尺寸大和缺陷少，但其产量和成品率低;液相剥离法优点是产量较高，且设备要求低，但是尺寸小，有机溶剂难以去除;脉冲激光沉积法优点是薄膜尺寸大和厚度可控，但是成品为非晶。

　　二维黒磷应用前景广阔，下一代晶体管材料的潜在希望二维黑磷被预测在众多的应用中颇具潜力，其优异的光电性能不仅有望代替硅用于制备晶体管，还可以用于制造其他高性能的电子设备和光电设备。场效应晶体管、光电元件、气体传感器、太阳能(14.70,-0.070,-0.47%)电池和黑磷量子点都是其未来可期应用方向。

　　二维黒磷表面状态极不稳定，寻找表面披覆材料将是重点二维黑磷在诸多方面有着良好的应用潜力，但其表面状态极不稳定，尤其是单层二维黑磷，二维黑磷越薄，稳定度越低。未来能否克服这个缺点将会成为二维黑磷能否广泛运用的关键，寻求一种良好的表面披覆材料会是将来研究的重要方向。

　　主要风险因素：行业进展、技术进步不及预期

　　来源：银河证券